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武汉理工大学毕业论文格式模板图片高清

发布时间:2024-09-04 15:05:34

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一、封面:按开题报告书封面字体格式填写。二、目录:先做好页面设置:在word中“文件”菜单设置:上下页边距均为3cm,左页边距5cm,右页边距2cm,装订边5cm,页眉与页脚边距2cm。页眉中写文章的题目,题目有副标题的不写入页眉。宋体小5居中。在页眉下空一行后写“目录”二字,间隔2个字距离(空格键4下),宋体小3居中,加粗。再空一行后写内容与页码,首尾对齐,中间用省略号隔开。(注:省略号输入法:shift + 6),目录内容一般为文章的一、二级标题/参考文献/致谢。三、正文:(一)第一页:1、页眉下空一行写论文题目,黑体小2加粗,居中。有副标题的,另起一行,在破折号后用黑体3号加粗。2、再空一行后写“摘要”。楷体5号。“摘要”二字加粗。“摘要”前空2字起行,二字之间空1字距,后用冒号。如:“摘  要:” 摘要内容为文章的主要观点,200字左右。用第三人称对全文进行准确概括,禁用“本文、笔者、作者”等主语,不加诠释和评价性文字,不用报道语式,不用序号,不分段。摘要要求文字简洁而精炼;内容客观,重点突出而新颖。3、另起一行,空2字写“关键词:”,关键词指最能反映文章观点的关键性词语,一般3-5个,中间用逗号隔开,最后不用句号。字体:楷体5号。5倍行距。“关键词”三字加粗。4、空一行,写论文题目、摘要与关键词的英文翻译,题目用罗马体小4加粗。6、空一行后写“Abstract:”“keywords:”,罗马体5号加粗。英文正文用罗马体5号。5倍行距。注意每句话首字母和专有名词首字母、关键词首字母要大写。(二)第二页起:本页开始写正文,正文字体除有特殊规定外,一般为:宋体5号,5倍行距。1、一级标题一律用黑体3号加粗,居中,在标题序号后用顿号隔开,特别注意:从第1个一级标题开始,与前文之间空一行后再写本标题。如:“ 一、设计的三要素 ”2、二级标题一律用黑体4号加粗,前面空2字起,前后不空行。序号用括号括起来,后面不再用顿号。如:“ (二)美观的原则 ”3、三级标题一律用黑体小4号,加粗,前面空2字起。序号后用圆点隔开。如:“ 民族化的意义”(三)参考文献及其标注方法:1、参考文献:是指作者在文章写作中为支撑自己观点而引用了的他人著作、论文等的关键性观点或原文,须在文中相应位置加以标注。标注方法:方括号加序号,上标,如:[1] ,引用文献不少于5篇,按在全文中出现的先后顺序标注,再在文章最后“参考文献”栏目,与文中对应汇总列出。汇总时专列一页,格式按:页眉下第一行顶格(不空格)写“参考文献:”,小4楷体加粗。下面分行空2字后写文献情况,字体:楷体5号,5倍行距。文献类型标识方法为:专著[M],论文集[C],报纸文章[N],期刊文章[J],学位论文[D],报告[R],标准[S],专利[P]。如:专著类按:方括号内的序号,空格键敲一下,作者名(两个以上作者用逗号隔开),圆点,著作名,[M],圆点,出版地,冒号,出版社名,逗号,出版年月,最后不写标点。论文集类按:方括号内的序号,空格键敲一下,作者名,圆点,文章名,圆点,期刊杂志名,[C],圆点,出版地,冒号,出版社名,逗号,刊物总期号,出版时间,最后不写标点。网络类按:方括号内的序号,空格键敲一下,作者名,圆点,文章名,圆点,网址域名,最后不写标点。2、注释:参考文献与注释的区别:参考文献是作者写作论著时所参考的文献书目,一般集中列表于文末;注释是对论著正文中某一特定的内容的进一步解释或补充说明,如因写作时需要引用某人原文,但考虑表达顺畅需要节略性引用或使用某些专有名词,为方便读者正确理解而进行说明或解释。文中用方括号内写注1、注2,上标。如:[注1] 一般采用在当页下面注释,与正文间用横线隔开,字体:楷体小5。3、图片:当表述不够直观时,可以配图加以说明。一般在当页配图,注意排版美观。文中表述后要用图说明的,用圆括号内写如:“(见图1、2)”,字体与前文不变。图片下居中按楷体5号写:图1,空格键2下,作者名,空格键2下,作品名。没有作者、作品名的可以不写,只写“图1”字样。(重点说明:如论文内容是与本人毕业创作、毕业设计直接相关的,须在论文后制作附件,附件封面在学院下载,封面填写字体、方法同《开题报告书》封面,注意:题目填写作品名,不写论文名。第二页为本人作品彩色打印图片,A4幅面。如为照片则洗印7寸照片后贴于A4 纸张上。)4、页码居中,从目录页开始编页码,首页显示页码。5、外文译名注意规范,如“达�6�1芬奇”,圆点须在中间。等等。6、引言或序言、“致谢”。“引言或序言”一般在目录页后单独写一页,主要阐述自己论文写作的原因、灵感来源、形成背景等,也可不写。“致谢”是指对论文写作中对自己提供指导、帮助的老师、学生等表示谢意。栏目中“序言”、“致谢”二字按“目录”二字同样格式字体写,正文按论文正文格式字体写。“致谢”后应落款及时间。

1、题目应简洁、明确、有概括性,字数不宜超过20个字。2、摘要要有高度的概括力,语言精练、明确,中文摘要约100到200字。3、关键词从论文标题或正文中挑选3到5个能表达主要内容的词作为关键词。4、写出目录,标明页码。5、正文,专科毕业论文正文字数应在3000字以上。6、毕业论文正文:包括前言、本论、结论三个部分,前言(引言)是论文的开头部分,主要说明论文写作的目的、现实意义、对所研究问题的认识,并提出论文的中心论点等,前言要写得简明扼要,篇幅不要太长。7、本论是毕业论文的主体,包括研究内容与方法、实验材料、实验结果与分析(讨论)等。在本部分要运用各方面的研究方法和实验结果,分析问题,论证观点,尽量反映出自己的科研能力和学术水平。8、结论是毕业论文的收尾部分,是围绕本论所作的结束语。其基本的要点就是总结全文,加深题意。9、谢辞,简述自己通过做毕业论文的体会,并应对指导教师和协助完成论文的有关人员表示谢意。毕业论文的基本教学要求是:1、培养学生综合运用、巩固与扩展所学的基础理论和专业知识,培养学生独立分析、解决实际问题能力、培养学生处理数据和信息的能力。2、培养学生正确的理论联系实际的工作作风,严肃认真的科学态度。3、培养学生进行社会调查研究;文献资料收集、阅读和整理、使用;提出论点、综合论证、总结写作等基本技能。

毕业论文格式  第一、构成项目 毕业论文包括以下内容: 封面、内容提要与关键词、目录、正文、注释、附录、参考文献。其中“附录”视具体情 况安排,其余为必备项目。如果需要,可以在正文前加“引言”,在参考文献后加“后记”。 第二、各项目含义  (1)封面 封面由文头、论文标题、作者、学校名称、专业、年级、指导教师、日期等项内容组成。  (2)内容提要与关键词 内容提要是论文内容的概括性描述,应忠实于原文,字数控制在 300 字以内。关键词是 从论文标题、内容提要或正文中提取的、能表现论文主题的、具有实质意义的词语,通常不 超过 7 个。  (3)目录 列出论文正文的一二级标题名称及对应页码,附录、参考文献、后记等对应的页码。  (4)正文 正文是论文的主体部分,通常由绪论(引论) 、本论、结论三个部分组成。这三部分在 行文上可以不明确标示。  (5)注释 对所创造的名词术语的解释或对引文出处的说明,注释采用脚注形式。  (6)附录,以及毕业论文结论 附属于正文,在毕业论文结束语中出现,对正文起补充说明作用的信息材料,可以是文 字、表格、图形等形式。  (7)参考文献 作者在写作过程中使用过的文章、著作名录。 4、毕业论文格式编排 第一、纸型、页边距及装订线 毕业论文一律用国家标准 A4 型纸 (297mmX210mm) 打印。 页边距为: (上) 天头 30mm, 地脚(下)25mm,订口(左)30mm,翻口(右)25mm。装订线在左边,距页边 10mm。 第二、版式与用字 文字、图形一律从左至右横写横排,5 倍行距。文字一律通栏编辑,使用规范的简化 汉字。忌用繁体字、异体字等其他不规范字。 第三、论文各部分的编排式样及字体字号 (1)文头 封面顶部居中, 小二号行楷, 顶行, 居中。 固定内容为“成都中医药大学本科毕业论文”。 (2)论文标题 小一号黑体。文头居中,按小一号字体上空一行。 (如果加论文副标题,则要求:小二 号黑体,紧挨正标题下居中,文字前加破折号) 论文标题以下的行距为:固定值,40 磅。 (3)作者、学院名称、专业、年级、指导教师、日期 项目名称用小三号黑体,后填写的内容处加下划线标明,8 个汉字的长度,所填写的内 容统一用三号楷体,各占一行,居中对齐。下空两行。 (4)内容提要及关键词 紧接封面后另起页,版式和字号按正文要求。其中,“内容提要”和 “:” 黑体,内容用宋体。上空一行,段首空两格,回行顶格:“关键词”与 “内容提要”间隔 两行,段首空两格。“关键词”和 “:” 用黑体,内容用宋体。关键词通常不超过七个,词间空 一格。 (5)目录 另起页,项目名称用 3 号黑体,居中排列,上下各空一行;内容用小 4 号仿宋。 (6)正文文字:另起页。 (7)论文标题:用二号黑体加粗,居中排列,上空一行;下标明年级、专业、作者, 作者姓名另起一行,四号楷体,居中排列;下空两行接正文。正文文字一般用小四号宋体, 每段起首空两格,回行顶格,单倍行距。  (8)正文文中标题 一级标题,标题序号为“一、”与正文字号相同,黑体,独占行,末尾不加标点; 二级标题,标题序号为“(二)”,与正文字体字号相同,独占行,末尾不加标点; 三级以下标题序号分别为“”和(1) ,与正文字体字号相同。为避免与注释相互混淆, 不可用“①”。可根据标题的长短确定是否独占行,若独占行,则末尾不使用标点,否则,标 题后必须加句号。每级标题的下一级标题应各自连续编号。  (9)注释:正文中加注之处右上角加数码,形式统一为“①”,同时在本页留出适当行 数,用横线与正文分开,空两格后定出相应的注号,再写注文。注号以页为单位排序,每个 注文各占一段,用小 5 号宋体。引用文章时,注文的顺序为:作者、文章标题、刊物名、某 年第几期〈例如 : ①龚祥瑞: 《论行政合理性原则》, 载《法学杂志》1987 年第 1 期。); 引用著作时, 注文的顺序为: 作者、 著作名称、 出版者、 某年第几版、 页数 ( 例如: [ 英 ] ② 威廉•韦德著: 《行政法》 ,楚剑译,中国大百科全书出版社 1997 年版,第 5 页。)。  (10)附录 项目名称为小四号黑体,在正文后空两行空两格排印,内容编排参考“示范文本”,也可 附上毕业论文致谢词。  (11)参考文献 项目名称用小四号黑体, 在正文或附录后空两行顶格排印, 另起行空两格用小四号宋体 排印参考文献内容,具体编排方式同注释(参考的著作可不写第几页) 。  (12)页码

论文格式由学术堂整理提供  一封面  题目:小二号黑体加粗居中  各项内容:四号宋体居中  二目录  目录:二号黑体加粗居中  章节条目:五号宋体  行距:单倍行距  三论文题目  小一号黑体加粗居中  四中文摘要  1、摘要:小二号黑体加粗居中  2、摘要内容字体:小四号宋体  3、字数:300字左右  4、行距:20磅  5、关键词:四号宋体,加粗词3-5个,每个词间空一格  五英文摘要  1、ABSTRACT:小二号TimesNewR  2、内容字体:小四号TimesNewR  3、单倍行距  4、Keywords:四号加粗词3-5个,小四号TimesNewR词间空一格  六绪论  小二号黑体加粗居中内容500字左右,小四号宋体,行距:20磅  七正文  (一)正文用小四号宋体  (二)安保、管理类毕业论文各章节按照一、二、三、四、五级标题序号字体格式  章:标题小二号黑体,加粗,居中  节:标题小三号黑体,加粗,居中  一级标题序号如:一、二、三、标题四号黑体,加粗,顶格  二级标题序号如:(一)(二)(三)标题小四号宋体,不加粗,顶格  三级标题序号如:标题小四号宋体,不加粗,缩进二个字  四级标题序号如:(1)(2)(3)标题小四号宋体,不加粗,缩进二个字  五级标题序号如:①②③标题小四号宋体,不加粗,缩进二个字  医学、体育类毕业论文各章序号用阿拉伯数字编码,层次格式为:1××××(小2号黑体,居中)××××××××××××××(内容用4号宋体)1××××(3号黑体,居左)×××××××××××××(内容用4号宋体)1××××(小3号黑体,居左)××××××××××××××××××××(内容用4号宋体)①××××(用与内容同样大小的宋体)××××(用与内容同样大小的宋体)  (三)表格  每个表格应有自己的表序和表题,表序和表题应写在表格上方正中表序后空一格书写表题表格允许下页接续写,表题可省略,表头应重复写,并在右上方写"续表××"  (四)插图  每幅图应有图序和图题,图序和图题应放在图位下方居中处图应在描图纸或在洁白纸上用墨线绘成,也可以用计算机绘图  (五)论文中的图、表、公式、算式等,一律用阿拉伯数字分别依序连编编排序号序号分章依序编码,其标注形式应便于互相区别,可分别为:图1、表2、公式(5)等  文中的阿拉伯数字一律用半角标示  八结束语  小二号黑体加粗居中内容300字左右,小四号宋体,行距:20磅  九致谢  小二号黑体加粗居中内容小四号宋体,行距:20磅  十参考文献  (一)小二号黑体加粗居中内容8-10篇,五号宋体,行距:20磅参考文献以文献在整个论文中出现的次序用[1]、[2]、[3]……形式统一排序、依次列出  (二)参考文献的格式:  着作:[序号]作者译者书名版本出版地出版社出版时间引用部分起止页  期刊:[序号]作者译者文章题目期刊名年份卷号(期数)引用部分起止页  会议论文集:[序号]作者译者文章名文集名会址开会年出版地出版者出版时间引用部分起止页  十一附录(可略去)  小二号黑体加粗居中英文内容小四号TimesNewR单倍行距翻译成中文字数不少于500字内容五号宋体,行距:20磅

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本科毕业设计(论文)  文献综述  院 (系):  专 业:  班 级:  学生姓名: 学 号:  年 月 日  本科生毕业设计(论文)文献综述评价表  毕业设计(论文)题目  综述名称 注意综述名称(综述内容中不要出现本课题怎么样等等)  评阅教师姓名 职称  评 价 项 目 优 良 合格 不合格  综述结构 01 文献综述结构完整、符合格式规范  综述内容 02 能准确如实地阐述参考文献作者的论点和实验结果  03 文字通顺、精练、可读性和实用性强  04 反映题目所在知识领域内的新动态、新趋势、新水平、新原理、新技术等  参考文献 05 中、英文参考文献的类型和数量符合规定要求,格式符合规范  06 围绕所选毕业设计(论文)题目搜集文献  成绩  综合评语:  评阅教师(签字):  年 月 日  文献综述: 小四号宋  空一行  标题 二号黑居中  空一行  1 XXX 三号黑  XXX 小四号宋,行距20磅  1 XXXX 小三号黑  XXX 小四号宋,行距20磅  1 XXX 四号黑  XXX 小四号宋,行距20磅  空一行  2 XXXX 三号黑  (空1行)  参 考 文 献  (空1行)  [要求按国标GB 7714—87《文后参考文献著录规则》书写,例如:]  [1] 袁庆龙,候文义.Ni-P合金镀层组织形貌及显微硬度研究[J].太原理工大学学报,2001,32(1):51-53 .(宋体五号,行距固定值20磅)  [2] 刘国钧,王连成.图书馆史研究[M].北京:高等教育出版社,1979:15-18,31.  下面的是我的文献综述  文献综述:  FTO透明导电薄膜的溅射法制备  1 前言  为了更好的开展毕业论文及毕业实验工作,在查找和阅读与《DSSC用FTO透明导电玻璃的溅射法制备》相关的文献和资料,完成撰写了本文献综述。随着科技的日趋成熟,导电玻璃的制备方法也越来越成熟,种类也衍生得越来越多。  本文章将对国内外的制备方法,种类,发展现状及趋势,工艺性能,退火处理对性能的影响等方面做一简要介绍。  2透明导电玻璃的种类及制备方法简介  1透明导电玻璃的种类  1 1 TCO导电玻璃  TCO(Transparent Conductive Oxide)玻璃,即透明导电氧化物镀膜玻璃,是指在平板玻璃表面通过物理或化学镀膜方法均匀的镀上一层透明的导电氧化物薄膜而形成的组件主要包括铟、锡、锌、铬的氧化物及其复合多元氧化物薄膜材料。  2 ITO透明导电玻璃  ITO透明导电玻璃全称为氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃,多通过ITO导电膜玻璃生产线,在高度净化的厂房环境中,利用平面磁控技术,在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。 ITO玻璃产品广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。  3FTO透明导电玻璃  FTO透明导电玻璃为掺杂氟的SnO2导电玻璃(SnO2:F),简称为FTO。FTO玻璃可以做为ITO导电玻璃的替换用品,广泛用于液晶显示屏,光催化,薄膜太阳能电池基底等方面,市场需求极大 FTO玻璃因其特殊性,在染料敏化太阳能电池,电致变色和光催化方面对其透光率和导电率都有很高的要求,其综合性能常用直属FTC来评价:FTC=T10/RS。T是薄膜的透光率,RS是薄膜的方阻值;在光学应用方面,则要求其对可见光有好的透射性和对红外有良好的反射性。对其基本要求是:①表面方阻低,②透光率高,③面积大、重量轻,④易加工、耐冲击。  2FTO透明导电玻璃制备方法  FTO透明导电玻璃的制备方法有,物理方法:溅射法、真空蒸发镀膜法、离子辅助沉积镀膜法等;化学方法:喷雾热解法、溶胶-凝胶法和化学气相沉积法等。目前适合批量生产且研发较多的有真空蒸发镀膜法、磁控溅射法、化学气相沉积法和喷雾热解等方法![1]化学气相沉积法和真空镀膜法制备的薄膜和玻璃基板的结合强度不够,溶胶-凝胶法制备的导电薄膜电阻较高。适合于批量生产且已经形成产业的工艺,只有磁控溅射法和溶胶-凝胶法。特别是,溅射法由于具有良好的可控性和易于获得大面积均匀的薄膜。  1磁控溅射法镀膜:  溅射镀膜(sputtering deposition)是指用离子轰击靶材表面,使靶材的原子被轰击出来,溅射产生的原子沉积在基体表面形成薄膜。溅射镀膜有二级、三级或四级溅射、磁控溅射、射频溅射、偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等装置。  目前最常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是磁控溅射法。磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。  2真空蒸发镀膜:  真空蒸发镀膜(vacuum vapor deposition)是在工作压强低于10-2 Pa,用蒸发器加热物质使之汽化蒸发到基片,并在基片上沉积形成固态薄膜的一种工艺方法。真空蒸发的加热方式主要有电阻加热蒸发、电子束加热蒸发、高频加热蒸发和激光加热蒸发等。对于镀制透明导电氧化物薄膜而言,其真空蒸发镀膜工艺一般有三种途径:(1)直接蒸发氧化物;(2)采用反应蒸发镀,即在蒸发金属的同时通入氧气进行化学反应生成金属氧化物;(3)对蒸发金属镀膜进行氧化处理。  3溶胶-凝胶法:  溶胶-凝胶法(so1-gel)是近年来发展起来的能代替高温固相合成反应制备陶瓷、玻璃和许多固体薄膜材料的一种新方法。它将金属醇盐或无机盐经溶液、溶胶、凝胶而周化,再将凝胶低温处理变为氧化物的方法,是应用胶体化学原理制各无机材料的一种湿化学方法。溶胶-凝胶工艺是一种制备多元氧化物薄膜的常用方法。按工艺可分为浸涂法和旋涂法。浸涂法是将衬底浸人含有金属离子的前驱体溶液中,以均匀速度将其提拉出来,在含有水分的空气中发生水解和聚合反应,最后通过热处理形成所需薄膜;而旋涂法则是通过将前体溶液滴在衬底后旋转衬底获得湿膜。  4化学气相沉积法:  化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态薄膜沉积在加热的固态衬底表面,是一种重要的薄膜制各方法。CVD法所选的反应体系必须满足:(1)在沉积温度下,反应物必须有足够的蒸汽压;(2)化学反应产物除了所需的沉积物为固态外,其余必须为气态;(3)沉积物的蒸汽压应足够低,以保证能较好地吸附在具有一定温度的基体上,但此法因必须制各具有高蒸发速率的铟锡前驱物而使生产成本较高。影响化学气相沉积薄膜的工艺参数很多,包括基体温度、气压、工作气体流量和反应物及其浓度等。  化学气相沉积技术的主要特点包括:设备及工艺简单、操作维护方便、灵活性强;适合在各种形状复杂的部件上沉积薄膜:由于设备简单,薄膜制备的成本也比较低。但是,薄膜的表面形貌很大程度上受到化学反应特性以及能量撒活方式的影响。  5喷雾热分解法:  喷雾热分解法是化学法成膜的一种,其过程与APCVD法比较相似。它是将前驱体溶液在高压载气的作用下雾化,然后输送到基片表面,在高温作用下,前驱体溶液发生一系列复杂的化学反应,在基片表面上得到需要的薄膜材料。而反应副产物一般是通过气相形式排出反应腔。常用的高压载气主要有:压缩空气、氮气、氩气等等。但是由于压缩空气中常含有大量的水蒸气,所以用氮气作为载气的情形比较多。如果需要在基片表面上发生分解反应,基片温度一般在300℃以上,在玻璃上制备FTO薄膜的基片温度一般为500℃。影响最终薄膜性能的喷涂参数有:载气压力、前驱体溶液流量、基片温度、喷口与基片的距离、喷枪移动速度等等[2]。在成膜过程中基材的温度、液体的流速、压缩气体的压力以及喷嘴到基材的距离等参数均可实现精确控制[3]。  3 FTO透明导电玻璃的研究现状、应用及发展趋势  1FTO透明导电玻璃的研究现状  自1907年Badeker首次报道了热氧化溅射的Cd薄膜生成半透明导电的CdO薄膜,引发了对透明导电氧化物(TCO)薄膜的研究。1950年前后出现了硬度高,化学稳定性好的SnO2基薄膜及综合光电性能优良的In2O3基薄膜,ZnO基薄膜的研究始于2O世纪80年代 。目前研究和应用较多的TCO薄膜主要有SnO2、In2O3。和ZnO基三大体系,其中以In203:Sn(ITO),SnO2 :F(FTO)和ZnO:Al(ZAO)最具代表性,这些薄膜具有高载流子浓度(1018~1021cm-3)和低电阻率(10-3~1O-4Ω•cm),且可见光透射率8O%~90%,使这些薄膜已被广泛应用于平面显示、建筑和太阳光伏能源系统中。[4] 已经商业化应用的TCO薄膜主要是In2O3Sn(ITO)和SnO2:F(FTO)2类,ITO由于其透明性好,电阻率低,易刻蚀和易低温制备等优点,一直是显示器领域中的首选TCO薄膜。FTO薄膜由于其化学稳定性好,生产设备简单,生产成本低等优点在节能视窗等建筑用大面积TCO薄膜中,具有很大的优势[5]。  Sn02:F(FTO)掺杂体系是一种n型半导体材料,表现出优良的电学和光学性能,并且耐腐蚀,耐高温,成本低,化学稳定性好,是现在研究较多,应用范围较广的一类TCO薄膜。苗莉等[6]采用喷雾热解法,以NH4F、SnCl2•2H20为原料,在普通玻璃衬底上制备出了方块电阻最低达到2Ω/口,可见光透光率为95%的FTO薄膜,且薄膜晶粒均匀,表面形貌平整致密。Yadav等[7]采用喷雾热解法,制备了不同厚度的FTO薄膜,最低电阻率达到91 X 10-4 Ω•cm。Moholkar等[8]采用喷雾热解法,制备了不同掺F浓度的FTO薄膜,研究了氟的掺杂浓度对Sn02薄膜的光学,结构和电学性能的影响。中国科学院等离子体物理研究所的戴松元小组[9、10]将FTO用于染料敏化太阳电池的透明电极,并获得较高的光电转换效率。  射频溅射:  射频溅射的基本原理是射频辉光放电。国内外射频溅射普遍选用的射频电源频率为13.56MHz,以防止射频信号与无线电信号的相互干扰。通常直流溅射的基本过程是,从阴极发出的电子,经过电场的加速后获得足够的能量,可以使气氛气体发生电离。正离子在电场作用下撞击阴极表面,溅射出阴极表面的原子、分子到衬底表面发生吸附、凝聚,最终成膜。  直流溅射不能用于绝缘体材料的薄膜制备,因为绝缘材料在受到正离子轰击时,靶材表面的正离子无法中和,使靶表面的电位逐渐升高,导致阴极靶与阳极问的电场减小,当靶表面电位上升到一定程度时,可以使气体无法电离,溅射无法进行。而射频溅射适合于任何一种类型的阻抗耦合,电极和靶材并不需要是导体,射频溅射非常适合于制备半导体、绝缘体等高熔点材料的薄膜。在靶材表面施加射频电压,当溅射处于上半周时,由于电子的质量比离子的质量小很多,故其迁移率很高,用很短时间就可以飞向靶面,中和其表面积累的正电荷,从而实现对绝缘材料的溅射,并且在靶表面又迅速积累起了大量的电子,使其表面因空间电荷而呈现负电位,导致在射频溅射正半周期,也可吸引离子轰击靶材。从而实现了在电压正、负半周期,均可溅射。磁场的作用是将电子与高密度等离子体束缚在靶材表面,可以提高溅射速度。[11]  用JPGF一450型射频磁控溅射系统在玻璃衬底上制备SnO2:F薄膜,系统的本底真空度为10-3Pa.溅射所用陶瓷靶是由纯度为99%SnO2和NH4F,粉末经混合、球磨后压制成坯,再经1300℃烧结而成,靶中NH4F的重量比是78%,用纯度为99.99% 的氩气和氧气作为工作气体,由可控阀门分别控制气体的流量。溅射过程中,控制真空室内氩气压强为1Pa,氧分压为5—5 Pa,靶与衬底间的距离为5cm.溅射功率为150W,溅射时间为25 min,衬底温度为100℃。用RIGAKU D/MAX—yA型x射线衍射(XRD)仪(CuKa辐射波长,154178 nm)测试样品的结构,用APHM一0190型原子力显微镜(AFM)观测样品的表面形貌,使用 rv一1900型紫外可见光分光光度计测量样品的吸收谱,使用激发源为325 nm的He—Cd激光器的光谱仪测量样品的室温光致发光谱,使用普通的万电表测试它的导电性(前提是尽量保持测量条件的一致性)。  2FTO透明导电玻璃的应用  FTO透明导电玻璃具有优良的光电性能,被广泛用于太阳能电池的窗口材料、低损耗光波导电材料及各种显示器和非晶硅太阳能电池中作为透明玻璃电极等,与生活息息相关。  1在薄膜太阳电池上的应用  太阳能电池是利用光伏效应,在半导体p-n结直接将太阳光的辐射能转化成电能的一种光电器件。TCO薄膜是太阳电池关键材料之一,可作为染料敏化太阳电池(dye-sensitized solar cells,DSCS)[12]等的透明电极,对它的要求是:具有低电阻率(方块电阻Rsh约为15Ω/□);高阳光辐射透过率,即吸收率与反射率要尽可能低;化学和力学稳定性好的特点。在薄膜太阳电池中,透明导电膜充当电极,具有太阳能直接透射到作用区域几乎不衰减、形成p-n结温度较低、低接触电阻、可同时作为防反射薄膜等优点。  2在显示器上的应用  显示器件能将外界事物的光、声、电等信息,经过变换处理,以图像、图形、数码、字符等适当形式加以显示。显示技术的发展方向是平板化。在众多平板显示器中,薄膜电致发光显示由于其主动发光、全固体化、耐冲击、视角大、适用温度宽、工序简单等优点,引起广泛关注,并发展迅速。FTO薄膜具有可见光透过率高、电阻率低、较好的耐蚀性和化学稳定性,因此被广泛用作平板显示器的透明电极。  3在气敏元件上的应用  气体传感器是把气体的物理、化学性质变换成易处理的光、电、磁等信号的转换元件。半导体气体传感器是采用金属氧化物或金属半导体氧化物材料做成的元件,与气体相互作用时产生表面吸附或反应,引起以载流子运动为特征的电导率或伏安特性或表面电位变化。二氧化锡薄膜气敏器件具有灵敏度高、响应速度和恢复速度快、功耗低等特点,更重要的是容易集成。随着微电子技术的发展,传感器不断向智能化、微型化方向发展。[13]  4在建筑幕墙玻璃及透明视窗上的应用  喷雾热解法制各的FTO薄膜能用于阳光节能玻璃,对可见光高透射,但对红外光高反射,其反射率大于70%。让阳光中可见光部分透过,而红外部分和远红外反射。阳光中的可见光部分对室内采光是必需的,但可将红外部分的热能辐射反射回去,能有效调节太阳光的入射和反射。利用FTO薄膜在可见光区的高透射性和对红外光的高反射性,可作为玻璃的防雾和防冰霜薄膜。  3 FTO透明导电玻璃的发展趋势  随着LCD的商品化、彩色化、大型化和TFT的驱动或太阳能电池的能量转变效率的提高,人们对透明导电氧化物(TCO)薄膜的要求越来越严格,至少需要满足如下条件:  (1)导电性能好,电阻率较低;  (2)可见光内透光率较高:  (3)镀膜温度更接近室温,能大面积均匀地镀膜;  (4)膜层加工性能好,可以进行高精度低损伤腐蚀;  (5)热稳定性及耐酸、碱性优良,硬度高;  (6)表面形状良好,没有针孔;  (7)价格较低,可实现大规模工业化生产。  目前,TCO薄膜已普遍达到下列水平:膜厚为500 nm的情况下电阻率在10-4 Ω•cm数量级,在可见光区透光率达80%,载流子迁移率一般达到40cm2/(v•s)。虽然TCO薄膜的性能指标可以满足当前应用需要,但随着器件性能的不断提升,对TCO薄膜提出了更高的性能要求。一些学者提出了TCO薄膜发展的一个量化的前景指标:禁带宽度>3 eV,直流电阻率~5×10-5 Ω•cm,可见光段在自由电子作用下的吸收系数<2x103 cm-1,载流子迁移率>100 cm2/(v•s)。  几十年来,人们一直在努力提高透明导电薄膜的透明性和导电性。SnO2:F(TFO)透明导电薄膜由于其兼备低电阻,高的可见光透过率,近红外高的反射率,优良的膜强度和化学稳定性等优点,越来越受到人们的青睐,必将在平板显示器件、建筑物玻璃和气敏传感器等众多领域中得到更广泛的应用。利用溅射法制备FTO透明导电玻璃它的生产工艺简单,操作方便,利于控制。成本较低,原料易得,但在制备过程中NH4F加热分解放出有污染的氮氧化物和氨烟,这对以后商业化生产造成了很大的制约。所以对原料的改进和污染的控制方面还有待开发。  4 制备条件对膜结构及光电性能的影响  长安大学材料科学与工程学院段理等做了磁控溅射制备银掺杂ZnO薄膜结构及光电性质研究实验,发表了文献[14],并在文献14中得出了1——3的结论。  1制备条件对膜厚的影响  文献中采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了银掺杂ZnO薄膜,当薄膜淀积时间从30rain延长到90min时,薄膜的厚度几乎按照线性关系从约270nm增加到820nm,即薄膜的淀积速率大致稳定在9nm/min左右,为匀速生长。溅射功率与膜厚呈线性增长,及沉淀速率与溅射功率大致呈线性关系。  2制备条件对膜结构的影响  晶体质量随溅射功率的增大而降低,随溅射气压的增大而降低。  3制备条件对膜光电性质的影响  在固定溅射总气压的条件下,增大氧分压可以增强薄膜的紫外发光强度,增大薄膜的载流子浓度。  4 退火对薄膜的影响  退火能显著提高薄膜晶体质量,并增强薄膜的PL发光强度和导电能力,其原因是退火能使银离子完成对锌离子的替代从而形成受主。[15]  5 退火后处理对膜结构与成分的影响  光敏薄膜的光电、形貌性能与退火处理密切相关,退火处理优化了薄膜表面形貌、减小了光学能隙、增大了薄膜的导电率和载流子迁移率。光敏薄膜性能的优化,有利于增大聚合物太阳电池的填充因子、开路电压和短路电流,对于提高其能量转换效率、改善器件光伏性能具有非常重要的意义。[16]分别对较低氧分压反应磁控溅射制备的 薄膜进行氧化性气氛和惰性气氛退火。通过XRD和SEM 分析,发现氧化性气氛退火薄膜为表面多孔的金红石结构 ,而惰性气氛退火薄膜表面较为致密,结构分析不仅观察到金红石结构的 ,还发现了四方结构的 。XPS表面分析进一步表明,氧化性气氛退火后,薄膜成分单一,未氧化的 完全氧化成稳定的 ,而且具有稳定结构的 薄膜表面吸附水很少。相对而言,惰性气氛退火后,薄膜表面 、 和 共存,表面化学吸附氧和吸附水较明显,薄膜的稳定性降低。[17]  6 FTO导电玻璃制备相关参数  根据范志新等所提出的理论表达式: 带入相关数据可得到,SnO2:F(FTO)的最佳掺杂含量为54%[18]通过对比总结,参考大量数据,选择溅射功率:100W,溅射压力:5Pa,溅射时间:5h,溅射靶距:38mm[13、19]做产品。进行相关参数的选择与优化。  7 参考文献  1、张志海, 热解法制备氟掺杂二氧化锡导电薄膜及其性能研究 合肥工业大学  2、汪振东, 玻璃基TiO<,2>-SiO<,2>/SnO<,2>:F薄膜的喷雾热分解法制备和表征 武汉理工大学  3、郝喜红, 喷雾热解法制备掺杂二氧化锡导电薄膜 西安建筑科技大学  4、张明福等, 透明导电氧化物薄膜研究的新进展 压电与声光  5、方俊 杨万莉, n型透明导电氧化物薄膜的研究新进展 陶瓷  6、苗莉等, SnO2:F导电薄膜的制备方法和性能表征 材料导报  7、Yadav A A,Masumdar E U,Moholkar A V,et a1.Effect of quantity of spraying solution on the properties of spray deposited fluorine doped tin oxide thin films[J].Physiea B:Condensed Matter,2009,404(12—13):1874 - 1877.  8、Moholkar A V,Pawar S M,Rajpure K Y,et a1.Effect of fluorine doping on highly transparent conductive spray deposited nanocrystalline tin oxide thin films[J].Applied Surface Science,2009,255(23):9358—9364.  9、Dai S,Wang K,Weng J,et a1.Design of DSC panel with efficiency more than 6%[J1.Solar Energy Materials and Solar Ceils,2005,85(3):447—455.  10、Huo Z,Dai S,Wang K,et a1.Nanocomposite gel electrolyte with large enhanced charge transport properties of an 13-/I- redox couple for quasi-solid-state dye-sensitized solar cells[J].Solar Energy Materials and Solar Cells,2007,91(20):1959-1965.  11、王璟和,射频溅射法制备透明导电陶瓷薄膜 天津大学  12、姜磊等, 染料敏化太阳电池研究进展 内蒙古大学学报(自然科学版)  13、曾志峰等, 射频溅射法制备掺杂SnO2纳米薄膜的研究 武汉大学学报(理学版)  14、段理、樊小勇等, 磁控溅射制备银掺杂 薄膜结构及光电性质研究 材料导报(研究篇)  15、SunLL,TanO K,ZhuW G,et a1.Pb(Zro 3Ti0. 7)03/Pb-TiO3 multilayer thin films for pyroelectric infrared sensorapplication[J].J Appl Phys,2006,99(9):09410  16、顾锦华、钟志有等, 真空退火处理对光敏薄膜及聚合物太阳电池性能的影响 中南民族大学学报(自然科学版)  17、王磊、杜军等, 退火气氛对SnO2薄膜结构与成分的影响 材料导报  18、范志新等, 二氧化锡薄膜的最佳掺杂含量理论表达式 电子器件  19、刘庆业等, 射频溅射法研制SnO2纳米薄膜 广西师范大学学报(自然科学版)

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计算机方面的论文写过很多的

应该还没有吧,出来了我们学校肯定会有通知的,耐心等等

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呃~~~~~~~~这类的论文我倒是有,不过不是你要求的学校的。

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